130k的低溫下，將Ni鍍在Pt(110) 表面上，並以AES(Auger electron spectrum)和
LEED(low eneryelectron diffraction) 等技術觀察Ni超薄膜的成長模式，及Ni在Pt
表面上受熱造成的滲透作用。
實驗時，分別以Pt(110) 的重構面(reconstruction)-(1×2) 和非重構面(
unreconstruction)-(1×1)當襯底(substrate) 。當Ni鍍在(1×2)面上，由AES 測量
所劃出之AST圖可判斷Ni在(1×2) 面上是先有一層的層成長後，再呈島狀不規則成長
，即所謂的SK mode；而LEED結果亦符合；並在蒸鍍約半層時，可看到繞射亮點由(1
×2)變為假性(1×1) 結構Pseudo-(1×1) ；而此相位變化應是Ni覆蓋層和Pt襯底層
之排列產生Anti phase 效應所致，並推斷Ni是先填滿Pt(110) 表面的missing row
sites ，即谷底(valley) 再繼續覆蓋其他位置。
當Ni鍍在(1×1) 面，由於Ni和Pt之間的作用力影響，使得(1×1)表面結構破壞；故
由LEED看到(1×1)LEED pattern 中亮點隨著蒸鍍時間而變暗；反之背景增強。而由
AES 之結果得出Ni和Pt之AST 圖為圓滑曲線，無折線產生，可判斷Ni在(1×1)面上為
島狀成長(VW mode)。
將Ni以定量鍍在Pt(110)-(1×2)表面表，由130k加熱到800k發現620k以下，表面蒸鍍
層無特殊變化。但在620k以上有Ni滲透(diffusion) 到Pt晶體內部(bulk)的現象發生
到690k更明顯，加熱完後Ni/Pt 界面形成合金屬。