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| 研究生： |
盧火鐵 LUO, HUO-TIE |
|---|---|
| 論文名稱： |
用X 光在矽單晶的異常效應測量 X光的偏振化因子 |
| 指導教授： |
陳瑞虹
Chen, Ruey-Hong |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
物理學系 Department of Physics |
| 畢業學年度： | 74 |
| 語文別： | 中文 |
| 中文關鍵詞： | X光 、矽單晶 、異常效應 、偏振化因子 、單色儀 |
| 英文關鍵詞： | BORRMANN EFFECT, KINEMATICAL THEO, DYNAMICAL-THEORY, X-RAY |
| 論文種類： | 學術論文 |
| 相關次數： | 點閱：158 下載：0 |
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利用X 光繞射儀解晶體結構時，為了求得更精確的Structure factor，經常在繞射儀
上加單色儀。
理論上，若X 光在單色儀上之Bragg 角為θM 時，由Kinematical theory，理想的mo
saic單色儀之偏振化比值為Cos22θM；若由Dynamical theory，理想的Perfect 單色
儀之偏振化比值為｜Cos2θM ｜。
本實驗利用完美矽單晶的Borrmann effect ，求得CuK2經石墨單色儀後之偏振化比值
為0.909 （4 ），接近於Perfect Crystal 之偏振化比值。
