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研究生: 李安國
LI, AN-GUO
論文名稱: 二維溫度場全像干涉條紋的解析
指導教授: 陳瑤明
Chen, Yao-Ming
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工業教育學系
Department of Industrial Education
畢業學年度: 75
語文別: 中文
中文關鍵詞: 二維溫度廠全線干涉條紋聚焦面教育
論文種類: 學術論文
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  • 本論文首先找尋二維溫度場全像干涉條紋可以視為等溫線的範圍,接著探討此干涉條
    紋示可以視為等溫線的誤差原因及校正公式。若以5%的誤差量作為標法時,各項誤
    差需校正與否的準則與校正公式分別為:
    1.當σ/L >3/40時,應使用△T=2/3Y/L(T-T∞) 之公式進行邊
    緣效應誤差的校正。
    2.當(dn/dy)2‧L3/n‧λ≧0.03。,而且條紋密度介於3條/㎜時
    與10條/mm之間時,應使用
    2
    dn dT 2 L
    △T=(───)(───) ───
    dT dy 6n
    的公式進行偏光誤的校正。
    3.當dn/dy≠C時而且條紋密度大於10條/㎜時,應使用
    (圖表省略)
    之公式進行聚焦面誤差的校正。
    4.當條紋密度非常高時,應使用選擇最佳聚焦面的電腦程式,找出最佳的聚焦面後,
    再拍攝干涉條紋與解析。
    本論文更一步將各項誤差的校正法則與校正公式合併,建立完整的二維溫度場全像干
    涉條紋解析程式,並以圓管外的溫度天涉條紋為例,電腦解析之結果與傳統方法(熱
    電偶測量)相比較其誤差在6.4%以內,與數值解法相比較其誤差在10%以內。

    無法下載圖示
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