研究生: |
李安國 LI, AN-GUO |
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論文名稱: |
二維溫度場全像干涉條紋的解析 |
指導教授: |
陳瑤明
Chen, Yao-Ming |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
工業教育學系 Department of Industrial Education |
畢業學年度: | 75 |
語文別: | 中文 |
中文關鍵詞: | 二維 、溫度廠 、全線干涉條紋 、聚焦面 、教育 |
論文種類: | 學術論文 |
相關次數: | 點閱:218 下載:0 |
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本論文首先找尋二維溫度場全像干涉條紋可以視為等溫線的範圍,接著探討此干涉條
紋示可以視為等溫線的誤差原因及校正公式。若以5%的誤差量作為標法時,各項誤
差需校正與否的準則與校正公式分別為:
1.當σ/L >3/40時,應使用△T=2/3Y/L(T-T∞) 之公式進行邊
緣效應誤差的校正。
2.當(dn/dy)2‧L3/n‧λ≧0.03。,而且條紋密度介於3條/㎜時
與10條/mm之間時,應使用
2
dn dT 2 L
△T=(───)(───) ───
dT dy 6n
的公式進行偏光誤的校正。
3.當dn/dy≠C時而且條紋密度大於10條/㎜時,應使用
(圖表省略)
之公式進行聚焦面誤差的校正。
4.當條紋密度非常高時,應使用選擇最佳聚焦面的電腦程式,找出最佳的聚焦面後,
再拍攝干涉條紋與解析。
本論文更一步將各項誤差的校正法則與校正公式合併,建立完整的二維溫度場全像干
涉條紋解析程式,並以圓管外的溫度天涉條紋為例,電腦解析之結果與傳統方法(熱
電偶測量)相比較其誤差在6.4%以內,與數值解法相比較其誤差在10%以內。