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研究生： 黃彥禎
論文名稱： 鈷薄膜在鉑（997）的表面成長結構
指導教授： 沈青嵩
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 物理學系
Department of Physics
論文出版年： 2005
畢業學年度： 93
語文別： 中文
論文頁數： 76
中文關鍵詞： 鉑(997)
論文種類： 學術論文
相關次數： 點閱：153  下載：2 
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    • 摘要
    我們利用歐傑電子能譜(Auger Electron Spectroscopy， AES)、低能電子繞射（Low Energy Electron Diffraction， LEED）、以及紫外光電子能譜術(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy， UPS)來深入探討鈷超薄膜鍍於0.25ML Co / Pt(111) 、1ML Co / Pt(111) 的成長模式以及在高溫形成合金時的成份、結構變化。
    在250K和300K之間鈷原子可以做周期性層狀成長並形成原子鏈，但在350K則會做其他的成長方式，可由LEED和UPS的結果得知。
    0.25ML Ni / 1 ML Co / Pt(997) 系統的退火效應中，Co53訊號在380K開始下降，Pt64訊號開始上升，和UPS開始變化溫度相同；且Pt64訊號有平台的現象產生，推測是因為有部份鈷原子往階梯方向擴散一段距離，造成AES量測時訊號大小沒有隨溫度改變。
    1ML Ni / 1 ML Co / Pt(997) 系統的退火效應中，Co53和Pt64開始發生變化的溫度在420K左右，和以前實驗室所作隨薄膜厚度增加AES訊號開始變化溫度上升的結果相似；同時Pt64觀察不到有平台的現象產生，應該是鈷原子均往下擴散所造成。在650K之後鈷原子均勻擴散，使LEED圖形開始明亮起來，在700K後，Co53訊號快速下降，顯示鈷原子往更深層開始擴散。

    第一章 緒論……………………………………………………… 3 第二章 儀器設備與工作原理…………………………………… 8 2-1 樣品的清潔與製備…………………………………………… 8 2-1-1 超高真空系統……………………………………… 8 2-1-2 樣品的清潔……………………………………………… 11 2-1-3 樣品的升降溫系統…………………………………… 11 2-1-4 樣品的蒸鍍設備………………………………………… 13 2-2 歐傑電子能譜術……………………………………………… 14 2-2-1 歐傑效應與電子能譜…………………………………… 14 2-2-2 同心半球型能譜分析儀……………………………… 17 2-2-3 電子能譜的分析………………………………………… 21 2-2-4 歐傑電子能譜的應用…………………………………… 21 2-3 低能電子繞射儀……………………………………………… 27 2-3-1 反商晶格與電子繞射…………………………………… 27 2-3-2 LEED的工作方式………………………………………… 31 2-3-3 LEED所傳達的表面訊息……………………………… 33 2-4 紫外光電子能譜術…………………………………………… 36 2-4-1 由光電效應到紫外光電子能譜………………………… 36 2-4-2 紫外光源的產生………………………………………… 38 第三章 實驗結果與討論………………………………………… 40 3-1 樣品的準備………………………………………………… 40 3-1-1 樣品的清潔………………………………………… 40 3-1-2 鈷鍍源的刻度………………………………………… 42 3-1-3 鈷在Pt(997)上的成長模式……………………………43 3-2 LEED的觀測結果……………………………………… 44 3-3 UPS的觀察結果 …………………………………………… 53 3-4 0.25ML Co/Pt（997）經退火效應的AES、 LEED、UPS 58 3-4-1 AES的變化…………………………………………… 58 3-4-2 LEED的變化………………………………………… 62 3-4-3 UPS的變化………………………………………… 64 3-5 1ML Co/Pt（997）經退火效應的AES、 LEED、UPS 66 3-5-1 AES的變化…………………………………………… 66 3-5-2 LEED的變化………………………………………… 70 3-5-3 UPS的變化………………………………………… 71 第四章 結論……………………………………………… 73 參考資料…………………………………………………… 74

    參考資料

    [1] P. Grtter and U. T. Drig, Phys. Rev. B 49, 2021 (1994)
    [2] E.R. Moog, J. Zak, S.D. Bader, J. Appl. Phys. 69, 880 (1991)
    [3] R. Krishnan and H. Lassri, J. Appl. Phys. 73, 6433 (1993)
    [4] L.Krusin-Elbaum, T. Shibauchi, B. Argyle, L. Gignac, D. Weller, Nature. 410, 444 (2001)
    [5] C. S. Shern, S. L. Chen, J. S. Tsay and R. H. Chen, Phys. Rev. B 58, 7328 (1998)
    [6] C. W. Su, Y. E. Wu, C. S. Shern, Surf. Sci. 482-485, 898 (2001)
    [7] C. S. Shern, C. W. Su, Y. E. Wu, and S. H. Chen, Surf. Sci. Lett. 495, L821 (2001)
    [8] Y. E. Wu, C.W. Su, F. C. Chen, C. S. Shern, R. H. Chen, JMMM. 239, 291 (2002)
    [9] J. S. Tsay and C. S. Shern, Surf. Sci. 396, 313 (1998)
    [10] J. S. Tsay and C. S. Shern, Surf. Sci. 396, 319 (1998)
    [11] C. W. Su, H. Y. Ho, C. S. Shern, R. H. Chen, Surf. Sci. 499, 103 (2002)
    [12] C. W. Su, H.Y Ho, C. S. Shern, R. H. Chen, Thin Solid Films 139
    [13] L. Argile and G. E. Rhead, Surf. Sci. Rep. 10, 277 (1989)
    [14] E. Bauer, Appl. Surf. Sci. 11/12, 479 (1982)
    [15] 蔡萍實，師大物理系碩士論文 (1992)
    [16] B. Dodson, Phys. Rev. B 36, 6288 (1987)
    [17] P. Grtter, U. T. Barrett, R. Belkhou, C. Guillot, H. Koundi, J. Phys. Condens. Metter (1994)
    [18] J. S. Tsay, C. S. Shern, J. Appl. Phys. 80, 3777 (1996)
    [19] Jean-Claude Bertolini, Applied Catalysis 191, 15 (2000)
    [20] G. Ertl, J. Kppers；“Low Energy Electrons and Surface Chemistry”；ISBN：3-527-26056-0
    [21] D. Braggs and M. R. Seah,“Practical Surface Analysis”(1984)
    [22] “Handbook of Auger Electron Spectroscopy” (Perkin-Elmer Inc. 1978)
    [23] H. Li, S. C. Wu, D. Tian, Y. S. Li, J. Quinn and F. Jona, Phys. Rev. B 44, 1438 (1991)
    [24] S. Tanuma, C. J. Powell and D. R. Penn, Surf. Interface Anal. 25, 25 (1997)
    [25] Charles Kittel,“Introduction to Solid State Physics”（1991）
    [26] 徐國棟，師大物理系碩士論文（1992）
    [27] 張東勇，師大物理系碩士論文（1993）
    [28] M. Zheng, J. Shen, P. Ohresser, Ch. V. Mohan, M. Klaua, J. Barthel and J. Kirschner, J. Appl. Phys. 85, 5060 (1999)
    [29] Gabor A. Somorjai,“Chemistry Two Dimensions Surface”1984, p.129
    [30] Y. –L. He, J. –K. Zuo, G. –C. Wang, Surf. Sci.269-279 (1991)
    [31] J. A. Venables,“ Introduction to Surface and Thin Film Processses”(Cambridge University Press, 2000)
    [32] L. I. Maisser, R.Glang(Eds), “Handbook of Thin Film Technology”, McGraw-Hill, New York (1983)
    [33] M. Hansen, Constitution of Binary Alloys, McGraw-Hill Book Company, New York, 1958.
    [34] B. M. Clemens, W. D. Nix and V. Ramaswamy, J. Appl. Phys. 87, 2816 (2000)
    [35] P. Gambardella, K. Kern, Surf. Sci. 475, L229 (2001)
    [36] P. Gambardella, M.Blanc, L. Brgi, K. Kuhnke, K. Kern, Surf. Sci. 449, 93 (2000)
    [37] B. A. Parkinson, F. S. Ohuchi, K. Ueno, and A. Koma, Appl. Phys. Lett. 58, 472 (1991)
    [38] S. Tiefenbacher, C. Pettenkofer, W. Jaegermann, Surf. Sci. 450,181 (2000)
    [39] W. Weiss and G. A. Somorjai,J. Vac. Sci. Technol. A 11(4),2138 (1993)
    [40] S. R€uttinger , H. Magnan *, H. Wende , P. Le F_evre ,
    K. Baberschke , D. Chandesris，Surf. Sci. 548 ，138–150，(2004)

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