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研究生: 楊祚魁
論文名稱: 相位式繞射光學元件之研製
指導教授: 謝美莉
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 光電工程研究所
Graduate Institute of Electro-Optical Engineering
論文出版年: 2004
畢業學年度: 92
語文別: 中文
論文頁數: 47
中文關鍵詞: 繞射光學元件相位光柵
英文關鍵詞: Diffractive optical elements, phase grating
論文種類: 學術論文
相關次數: 點閱:439下載:65
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  • 本論文主要為對相位式繞射光學元件的製作與特性作一探討,首先,利用微影蝕刻製程對所欲探討的相位式繞射光學元件進行製作,並經由理論模擬與實驗結果來探討繞射光學元件的特性。
    而欲探討的相位式繞射光學元件分為兩部分,第一部份為相位光柵部分,除了說明二階相位光柵的理論與實驗結果外,也對四階相位光柵部份作一探討;第二部份為相位式電腦全像片部分,此部份主要在於利用相同製程技術來進行製作相位式電腦全像片,並對重建圖形結果作一觀察與分析。

    摘要…………………………………………………………..i 誌謝…………………………………………………………..ii 圖目錄………………………………………………………..iii 表目錄………………………………………………………..v 第一章 緒論…………………………………………………..1 1.1. 微光學的發展……………………………………….1 1.2. 論文大綱與架構…………………………………….2 第二章 相位式繞射元件之製程………………………………4 2.1. 微影蝕刻製作流程………………………………….6 2.2. 材料特性介紹 ………………………………………7 第三章 相位光柵…………………………………………...12 3.1. 二階相位光柵………………………………………..12 3.1.1. 二階相位光柵之理論分析…………………….12 3.1.2. 實驗方法與結果……………………………….16 3.2. 四階相位光柵………………………………………..17 3.2.1. 四階相位光柵之理論分析…………………….17 3.2.2. 製作結果與未來改進方法…………………….21 第四章 相位式電腦全像片之製作……………………….36 4.1. 全像片的設計流程…………………………………36 4.2. 製作與分析………………………………………….38 第五章 結論與展望…………………………………….44 參考文獻……………………………………………………...46

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