研究生: |
林冠翔 Lin, Kuan-Hsiang |
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論文名稱: |
後退火處理對氧化鋁覆蓋層效應於氧化鉿鋯鐵電記憶體之電性分析與切換特性可靠度探討 Influence of Post-Annealing Treatment on the Electrical Characteristics and Switching Reliability of Hafnium-Zirconium-Oxide Ferroelectric Memory with Aluminum Oxide Capping Layer |
指導教授: |
鄭淳護
Cheng, Chun-Hu |
口試委員: |
高瑄苓
Kao, Hsuan-Ling 藍宇彬 Lan, Yu-Pin 鄭淳護 Cheng, Chun-Hu |
口試日期: | 2022/08/25 |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
機電工程學系 Department of Mechatronic Engineering |
論文出版年: | 2022 |
畢業學年度: | 110 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 89 |
研究方法: | 實驗設計法 |
DOI URL: | http://doi.org/10.6345/NTNU202201587 |
論文種類: | 學術論文 |
相關次數: | 點閱:70 下載:0 |
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