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研究生: 林冠翔
Lin, Kuan-Hsiang
論文名稱: 後退火處理對氧化鋁覆蓋層效應於氧化鉿鋯鐵電記憶體之電性分析與切換特性可靠度探討
Influence of Post-Annealing Treatment on the Electrical Characteristics and Switching Reliability of Hafnium-Zirconium-Oxide Ferroelectric Memory with Aluminum Oxide Capping Layer
指導教授: 鄭淳護
Cheng, Chun-Hu
口試委員: 高瑄苓
Kao, Hsuan-Ling
藍宇彬
Lan, Yu-Pin
鄭淳護
Cheng, Chun-Hu
口試日期: 2022/08/25
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 機電工程學系
Department of Mechatronic Engineering
論文出版年: 2022
畢業學年度: 110
語文別: 中文
論文頁數: 89
研究方法: 實驗設計法
DOI URL: http://doi.org/10.6345/NTNU202201587
論文種類: 學術論文
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    2027/09/20
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